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掃描電鏡之EDX能譜分析篇

 更新時(shí)間:2017-12-05 點(diǎn)擊量:34573

掃描電子顯微鏡(SEM)利用電子束從納米尺度的樣品中獲取信息。所檢測(cè)到的主要信號(hào)類(lèi)型是背散射電子(BSE)和二次電子(SE),它們?cè)诟弑堵氏律蓸悠返幕叶葓D像。然而,還有許多其他的電子與樣品表面物質(zhì)相互作用的產(chǎn)物——這些信號(hào)可以提供關(guān)于樣品的額外信息。在這篇博客中,我們將闡述掃描電鏡中的能譜(EDX)是如何工作的。

 

電子 —— 與樣品表面的相互作用

 

入射電子與樣品表面的物質(zhì)相互作用產(chǎn)生了各種各樣的信號(hào),這些信號(hào)攜帶了關(guān)于樣品的不同信息 (圖1)。例如,背散射電子產(chǎn)生的圖像與原子序數(shù)的差異有關(guān); 二次電子給出了形貌細(xì)節(jié)信息,陰極發(fā)光可以提供關(guān)于電子結(jié)構(gòu)和材料化學(xué)成分的信息; 透射電子可以描述樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和晶體學(xué)。在掃描電鏡中廣泛使用的另一種信號(hào)是X射線(xiàn)。

 

圖1:電子物質(zhì)相互作用中產(chǎn)生不同信號(hào)的例證。

 

掃描電鏡中能譜的原理

 

每個(gè)原子都有一個(gè)*的電子數(shù),它們?cè)谔囟ㄎ恢玫恼l件下存在,如圖2所示。這些位置屬于特定的軌道,它們擁有不同的、離散的能量。

 

SEM中X射線(xiàn)的生成一共有兩個(gè)步驟。在*步中,電子束撞擊樣品并將部分能量轉(zhuǎn)移到樣品的原子上。這種能量可以被原子的電子用來(lái)“跳躍”到具有更高能量的能量軌道,或者是脫離原子。如果發(fā)生這樣的轉(zhuǎn)變,電子就會(huì)留下一個(gè)空位??瘴幌喈?dāng)于一個(gè)正電荷,在這個(gè)過(guò)程的第二步,空位會(huì)吸引來(lái)自高能量軌道的電子填補(bǔ)進(jìn)來(lái)。當(dāng)這樣一個(gè)高能量軌道的電子填滿(mǎn)了低能量軌道的空位時(shí),這種轉(zhuǎn)換的能量差可以以X射線(xiàn)的形式釋放出來(lái)。

 

X射線(xiàn)的能量是通過(guò)這兩個(gè)軌道之間能量差的特征所展現(xiàn)出來(lái)的。它取決于原子序數(shù),是每個(gè)元素的*屬性。所以,X射線(xiàn)是每個(gè)元素的“指紋”,可以用來(lái)識(shí)別樣品中存在的元素的類(lèi)型。

 

圖2:X射線(xiàn)生成過(guò)程:1)將能量轉(zhuǎn)移到原子電子上,使其脫離生成一個(gè)空位,2)空位由更高能量的另一個(gè)電子填充,并釋放出X射線(xiàn)。

 

EDX能譜分析:X射線(xiàn)如何工作

 

與BSE,SE和TE不同,X射線(xiàn)是電磁輻射,就像光一樣,由光子組成。為了檢測(cè)它們,的系統(tǒng)使用了硅漂移探測(cè)器(SDD)。由于其具有更高的計(jì)數(shù)率、更好的分辨率和更快的分析能力,都優(yōu)于傳統(tǒng)的Si(Li)探測(cè)器。這些探測(cè)器被置于一個(gè)特定角度,非常接近樣品,并且有能力測(cè)量X射線(xiàn)的光子能量。探測(cè)器與樣品之間的立體角越高, X射線(xiàn)檢測(cè)概率越高,因此獲得*結(jié)果的可能性也越大。

 

圖3: 典型的EDX光譜:y軸描述X射線(xiàn)數(shù)量,x軸是X射線(xiàn)的能量。峰的位置是對(duì)元素的識(shí)別,峰高有助于對(duì)樣品中各元素濃度的量化。

 

由EDX分析產(chǎn)生的數(shù)據(jù)包含了樣品中所有不同元素對(duì)應(yīng)的峰值的光譜。在圖3中可以看到,每一個(gè)元素都有*能量的特征峰。

 

此外,EDX可以用于定性(元素的類(lèi)型)以及定量(樣本中每個(gè)元素的濃度百分比)的分析。在大多數(shù)SEM中,軟件可以自動(dòng)識(shí)別峰值,并計(jì)算檢測(cè)到的每個(gè)元素的原子百分比。EDX技術(shù)的另一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是,它是一種非破壞性的表征技術(shù),需要很少或不需要樣品的制備。

 

Phenom ProX電鏡能譜一體機(jī)(2017提高版)

 

Phenom ProX是一款使用高亮度CeB6 燈絲的電鏡能譜一體機(jī),當(dāng)您不僅只觀(guān)測(cè)樣且表面微觀(guān)形貌, 還要對(duì)其表面元素成分進(jìn)行定性半定量分析時(shí),PhenomProX是您理想的選擇。 2017年,Phenom-World發(fā)布了分辨率優(yōu)于8nm@10kV,放大倍數(shù)50,000倍, 元素探測(cè)范圍介于5-95號(hào)之間的第5代PhenomProX電鏡能譜一體機(jī)。*代PhenomProX電鏡能譜一體機(jī)曾榮獲2012年新產(chǎn)品獎(jiǎng),是掃描電鏡能譜行業(yè)的一個(gè)里程碑。

產(chǎn)品參數(shù)

 

Phenom ProX的掃描電鏡系統(tǒng)和EDS能譜儀系統(tǒng)使用的軟件均由荷蘭Phenom-World公司編寫(xiě),用戶(hù)通過(guò)一個(gè)界面就可以操控兩項(xiàng)功能,圖形化的設(shè)計(jì),使操作變得的簡(jiǎn)單,點(diǎn)擊感興趣的區(qū)域,在數(shù)秒內(nèi)既可以得到微觀(guān)形貌信息,同時(shí)得到該區(qū)域的表面元素信息。

 

線(xiàn)掃描

面掃描

 

示例——金相樣品

 

Phenom ProX電鏡能譜一體機(jī)能譜測(cè)試——面掃(Mapping計(jì)數(shù)率高達(dá)1.3萬(wàn)CPS,Mapping結(jié)果更準(zhǔn)確)

 

Phenom ProX電鏡能譜一體機(jī)能譜測(cè)試——線(xiàn)掃

 

值得一提的是:使用Phenom ProX電鏡能譜一體機(jī),若設(shè)備遇到故障,來(lái)自復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司的一位工程師就能幫您全面解決問(wèn)題,用戶(hù)再也不需要分別掃描電鏡和能譜儀供應(yīng)商的維修工程師了。當(dāng)然,在您的正確使用下,Phenom ProX是一位非常結(jié)實(shí)的工作伙伴,不會(huì)輕易給您帶來(lái)煩惱。

 

傳真:

郵箱:info@phenom-china.com

地址:上海市閔行區(qū)虹橋鎮(zhèn)申濱路 88 號(hào)上海虹橋麗寶廣場(chǎng) T5,705 室

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