Phenom Pharos G2:可以放在桌子上的場發(fā)射掃描電鏡
先進(jìn)的技術(shù)不斷推動科學(xué)進(jìn)步,推動我們對基本原理和基礎(chǔ)科學(xué)理解的邊界。
但是科學(xué)進(jìn)步也會受到觀察能力的限制,顯微技術(shù)的發(fā)展和改進(jìn)是當(dāng)今社會技術(shù)和知識增長的基石。不斷創(chuàng)新、不斷突破顯微技術(shù)的邊界是飛納電鏡的責(zé)任與使命。
全新設(shè)計的電子光路、場發(fā)射燈絲,革命性的震動免疫與磁場隔離、穩(wěn)定的真空系統(tǒng),將臺式掃描電鏡的分辨率突破到 1.8 nm 以內(nèi),同時不受安裝樓層、震動、磁場的限制。全自動的 15 秒抽真空系統(tǒng),使得用戶可以在 1 分鐘內(nèi)獲取材料的形貌和成分信息。
高分辨
15 秒抽真空
1 分鐘場發(fā)射 SEM 成像
1 秒能譜 Mapping
低加速電壓
不噴金直接觀測高真空二次電子像
豐富的拓展功能
人人都可操作
可放置任意樓層
高速度和高分辨的理想搭配
材料研究的老師說:我理解的利器應(yīng)該是具有*的分辨率,那臺式的場發(fā)射也可以稱得上科研利器嗎?
第二代飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 重新定義了臺式電鏡的設(shè)備性能和操作速度,能譜和掃描電鏡圖像軟件高度集成,界面友好,不同經(jīng)驗級別的用戶都可以在 1 分鐘內(nèi)獲得高分辨率的 SEM 圖像,1s 便可獲得能譜 Mapping 結(jié)果。飛納的臺式場發(fā)射分辨率優(yōu)于 1.8nm,實測結(jié)果可達(dá)1.2nm,輕松觀測納米級別材料。
金顆粒 - 分辨率實測 1.2 nm
1 分鐘出場發(fā)射 SEM 圖
1s 獲得能譜 Mapping 結(jié)果
“軟"樣品成像*
電池隔離膜材料研發(fā)人員說:我非常擔(dān)心較高的加速電壓會對我的樣品造成損壞,但是通常較低的加速電壓下又無法獲得好的照片,我很困擾。
第二代飛納臺式場發(fā)射電鏡,電子束能量范圍大,在低加速電壓下仍然體現(xiàn)出較高的性能,無需繁瑣的樣品制備,即可直接對絕緣材料和電子束敏感材料進(jìn)行成像,也不會損壞樣品或者掩蓋樣品納米級的特征。比如用于水凈化的沸石,藥片,膠囊粉末以及以尼龍、聚酯、氨綸和芳綸為原料的聚合物纖維等,這些樣品如果使用高能量的電子束進(jìn)行成像,將會受到明顯損傷,因此需要使用低能量電子束進(jìn)行成像。Phenom Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡低至 1kV,仍具有*的成像功能。
絕緣樣品 - 5kV - SE 充電嚴(yán)重
絕緣樣品 - 1kV - SE 充電消失
電子束敏感樣品 - 20kV - 樣品損傷嚴(yán)重
電子束敏感樣品 - 1kV - 樣品不受損傷
植物組織切片
成神經(jīng)細(xì)胞瘤組織切片 92,000x
豐富的拓展功能
做粉末冶金的客戶說:我認(rèn)為理想的掃描電鏡,不僅只做形貌的觀察和成分的分析,還能快速準(zhǔn)確地幫助我們做大量顆粒的統(tǒng)計分析,這樣才能為我們解決實際問題,提升我們的工作效率。
第二代臺式場發(fā)射具有 5 大豐富的拓展功能,其中之一的顆粒統(tǒng)計分析系統(tǒng),便可以自動測量統(tǒng)計顆粒的大小、形狀及數(shù)量。
拓展功能 1:顆粒統(tǒng)計分析系統(tǒng)
· 自動并統(tǒng)計分析顆粒的大小、形狀、數(shù)量等
· 探測速度快:高達(dá) 1000 個 / 分鐘
· 可測量顆粒尺寸范圍:0.1μm-100μm
· 輸出詳細(xì)數(shù)據(jù):圓度、縱橫比、凹凸度等
· 可選配 Nebula 干粉分散器
拓展功能 2:3D 粗糙度重建系統(tǒng)
· 基于“陰影顯形"技術(shù),進(jìn)行實時三維重建
· 無需樣品傾斜
· 自動進(jìn)行粗糙度測量(平均粗糙度 Ra 和粗糙高 Rz 等)
· 可輸出 3D 曲線,2D / 3D 圖像,CSV 等信息
拓展功能 3:自動全景圖像拼合
· 無需干預(yù),全自動采集圖片
· 高分辨和高精度縫合算法:電鏡下圖像連接無波動
· 全域超景深形式展現(xiàn)完整樣品圖像
· 超大視野:最大可達(dá) 100mm
拓展功能 4:纖維統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)
· 全自動批量化處理,消除人為誤差
· 可觀測納米纖維,獲取豐富的數(shù)據(jù)結(jié)果
· 可輸出纖維直徑分布、纖維方向、濾膜孔徑等數(shù)據(jù)
· 統(tǒng)計方法可追溯,精確到每一根纖維
拓展功能 5:孔徑統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)
· 全自動測量并統(tǒng)計分析孔徑大小、形狀、數(shù)量等
· 孔徑詳細(xì)數(shù)據(jù):長寬比、圓當(dāng)量直徑、長短軸等
· 輸出孔徑分布、孔隙率等詳細(xì)數(shù)據(jù)結(jié)果
· 統(tǒng)計方法可追溯,精確到每一個孔徑
臺式設(shè)計:占地小,靈活性高,操作簡單
一位課題組的老師說:我們課題組近幾年發(fā)展迅速,人員不斷壯大,需要做掃描電鏡表征的人數(shù)越來越多,我們計劃再買一臺供學(xué)生使用,但是我們實驗室的空間有限,并且在 10 樓,沒有辦法騰出專門的房間來放置。
傳統(tǒng)的透射掃描電鏡體積龐大,需要一間專門放置設(shè)備的房間。且對放置的環(huán)境有嚴(yán)格的要求,需要專門的防磁、防震裝置,通常建議放置在 1 樓。
Phenom Pharos G2 實現(xiàn)了將場發(fā)射掃描電鏡體積縮小了 80 %,直接放置到一張桌子上。內(nèi)置磁屏蔽和減震系統(tǒng),對放置環(huán)境無嚴(yán)格需求,可以根據(jù)用戶需求,放置在產(chǎn)線旁,辦公桌,研究室等。
放置于 7 樓的 Phenom Pharos G2
飛納電鏡用戶同濟(jì)大學(xué)吳一楠老師體驗 Phenom Pharos G2
Phenom Pharos G2:應(yīng)用案例
Phenom Pharos G2 廣泛應(yīng)用于鋰電行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、制藥行業(yè)、生命科學(xué)以及各種金屬材料等。
鋰電池隔膜材料
半導(dǎo)體芯片外觀檢測
包衣藥丸
電機(jī)-金屬材料
珊瑚內(nèi)表面
Phenom Pharos G2:客戶評價
復(fù)旦大學(xué) 楊振國教授(失效分析專家):“不需要噴金處理,就可以清晰成像,很大程度地提高了失效分析研究的效率,操作比較簡單,課題組的學(xué)生們都能快速掌握使用方法,對我們來說幫助很大。"
同濟(jì)大學(xué) 吳一楠副教授(環(huán)境科學(xué)與工程學(xué)院):“最新一代的臺式場發(fā)射,讓我非常驚艷。沒想到科技發(fā)展和進(jìn)步地如此之快,可以使得傳統(tǒng)的落地場發(fā)射都可以做到桌面上,并且又比傳統(tǒng)落地電鏡操作要方便很多,對安裝和放置環(huán)境也沒有什么特殊要求,真的非常推薦!"
Colin Humphreys(英國劍橋大學(xué)教授):“材料科學(xué)非常重要,最終將會改變?nèi)祟惖纳?。掃描電鏡對材料科學(xué)的研究具有重要的意義。傳統(tǒng)電鏡需要非常有經(jīng)驗的專業(yè)人士操作,通常需要長時間的培訓(xùn),拍一張圖片也要耗時也很長。而飛納電鏡只需要培訓(xùn) 15 分鐘即可以上手操作,可以很方便的幾分鐘之內(nèi)給出樣品的形貌信息和成分信息,給材料科學(xué)的研究帶來了非常大的方便。"
Phenom Pharos G2:部分用戶
傳真:
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