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慕尼黑上海分析生化展（analytica China）是亞洲zui大的分析和生化技術(shù)領(lǐng)域的性博覽會(huì)，是業(yè)內(nèi)企業(yè)全面展示技術(shù)、產(chǎn)品和解決方案的*平臺(tái)。慕尼黑上海分析生化展（analytica China 2016）將于 2016 年 10 月 10 - 12 日在上海新博覽中心 N1，N2，N3 館舉行。飛納電鏡攜帕納科臺(tái)式 XRF 及臺(tái)式離子研磨拋光儀 1060 在 N3.3205 展出，歡迎廣大參加本次慕尼黑上海分析生化展的觀眾們前來參觀，體驗(yàn)飛納臺(tái)式掃描電鏡，帕納科臺(tái)式 XRF 及臺(tái)式離子研磨拋光儀三款臺(tái)式科學(xué)儀器帶來的突破與驚喜。

一、臺(tái)式掃描電鏡：

  飛納電鏡來自于世界*的掃描電鏡制造商 Phenom-World，是快捷、出眾、可靠的電鏡成像分析設(shè)備，主要應(yīng)用于材料科學(xué)，生命科學(xué)，工業(yè)制造，地球科學(xué)，電子，鑒定，教育等領(lǐng)域。飛納臺(tái)式掃描電鏡自推出以來，深受廣大高校老師和學(xué)生的歡迎。

  飛納電鏡*的集成化設(shè)計(jì)，體積小巧，主無需配備專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室，提供在諸多領(lǐng)域中要求的高分辨率以及高質(zhì)量分析成像。高性價(jià)比、操作簡便、快速成像的飛納臺(tái)式掃描電鏡成為工程師，技術(shù)員，研究員以及科教專家觀測(cè)微米以及納米結(jié)構(gòu)的。飛納電鏡具有以下主要優(yōu)點(diǎn)：

1)15 秒抽真空，30 秒快速成像，無需噴金，可直接觀測(cè)樣品；

2)*配置光學(xué)導(dǎo)航，方便用戶實(shí)時(shí)定位掃描樣品的位置；全觸控界面及自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)，操作便捷；

3)是世界上*采用 CeB6 燈絲的臺(tái)式掃描電鏡，壽命長（1500 小時(shí)，是普通鎢燈絲壽命的 20-30 倍）、亮度高、色差低，圖像細(xì)膩；

4)*的防震設(shè)計(jì)，能夠zui大限度的減小外界環(huán)境對(duì)電鏡的干擾，采用軟件保護(hù)硬件模式，對(duì)于電鏡起到很好的保護(hù)作用；

5)功能多樣化的樣品杯及軟件拓展功能；應(yīng)用軟件終生免費(fèi)升級(jí)，國外工程師可 24 小時(shí)通過網(wǎng)絡(luò)對(duì)電鏡的性能進(jìn)行監(jiān)測(cè)和調(diào)試，后期維護(hù)簡單。

二、臺(tái)式X射線熒光光譜儀

  作為元素成分分析的一種方法，帕納科臺(tái)式 XRF 在環(huán)保領(lǐng)域、食品領(lǐng)域、材料領(lǐng)域、化學(xué)化工等眾多領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。XRF 是一種物理分析方法，相比于化學(xué)方法，XRF 無需強(qiáng)酸消解等樣品前處理步驟，不會(huì)產(chǎn)生二次污染，操作簡單，檢出限可達(dá)到 ppm 級(jí)。

  帕納科作為飛利浦的分支機(jī)構(gòu)，現(xiàn)已成為zui大的 X 射線分析儀器生產(chǎn)廠家，是專業(yè)的 X 射線儀器制造商。帕納科臺(tái)式 XRF 繼承了飛利浦節(jié)能的傳統(tǒng)，采用一代硅漂移探測(cè)器，具有*的性能。其主要特點(diǎn)如下：

1.提供快速簡單的元素分析方法，一般 3 分鐘即可得到檢測(cè)結(jié)果；

2.超高的分辨率（135eV）以及的檢出限（ppm 級(jí)到亞 ppm 級(jí)），可檢測(cè)元素范圍 C（6）－Am（95）；

3.對(duì)樣品狀態(tài)的強(qiáng)大兼容性，可以測(cè)試規(guī)則、不規(guī)則樣品、粉末樣品、熔融樣品以及液體樣品等；

4.超快學(xué)習(xí)上手性能，僅需簡單培訓(xùn)即會(huì)操作使用；

5.自主提供的*的陶瓷光管，實(shí)現(xiàn)的儀器匹配和光管超長壽命；

6.超小占地面積，占地面積不超過 0.2 平米；

7.無損分析，無需強(qiáng)酸消解。在測(cè)定中不會(huì)引起化學(xué)狀態(tài)的改變，同一試樣可反復(fù)多次測(cè)量，重現(xiàn)性好。

三、臺(tái)式離子研磨拋光儀：

臺(tái)式離子研磨拋光儀一臺(tái)高質(zhì)量的 SEM 樣品制備臺(tái)式精密儀器，滿足幾乎所有材料應(yīng)用的樣品制備。Fishione 具有目前先進(jìn)技術(shù)的離子研磨拋光系統(tǒng)，設(shè)計(jì)精巧，操作方便，性能穩(wěn)定。可用于制備各種材料的高質(zhì)量掃描電鏡樣品，滿足苛刻的成像及分析所要求的樣品制備。

臺(tái)式離子研磨拋光儀進(jìn)行加工的材料來源種類十分廣泛，包括由多元素組成的試樣，以及具有不同機(jī)械硬度、尺寸和物理特性的合金、半導(dǎo)體材料、聚合物和礦物等。如焊縫焊縫截面、集成電路焊點(diǎn)、芯片 BGA 切片、多層薄膜截面、顆粒纖維斷面、復(fù)合材料、陶瓷、金屬及合金、巖石礦物及其他無機(jī)非金屬等各種材料的 SEM 樣品。臺(tái)式離子研磨拋光儀具有以下特點(diǎn)：

1、具有高能量雙離子束源，可同時(shí)聚焦在樣品表面，大大提高了研磨拋光速度；

2、具有預(yù)真空鎖，將真空艙體與外部環(huán)境隔離，保證樣品轉(zhuǎn)移過程中的真空環(huán)境；

3、可以對(duì)樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)的原位觀察；

4、具有高度自動(dòng)感應(yīng)功能，同時(shí)可利用編程對(duì)樣品進(jìn)行重復(fù)定位、調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)速度和往復(fù)擺動(dòng)角度。